选择性膜沉积

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510073414.5

申请日：

2025-01-17

公开(公告)号：

CN120356823A

公开(公告)日：

2025-07-22

发明(设计)人：

P·马

申请人：

ASMIP私人控股有限公司

申请人地址：

荷兰阿尔梅勒

IPC主分类号：

H01L21/285

IPC分类号：

H01L21/3213 C23C16/455 C23C16/52 C23C16/14

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王冉

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-22	公开	公开

共 50 条

[1]

选择性钝化和选择性沉积 [P].

J·W·梅斯 ;

M·吉文斯 ;

S·豪卡 ;

V·帕鲁丘里 ;

I·拉伊梅克斯 ;

S·邓 ;

A·伊利贝里 ;

E·托伊斯 ;

D·朗格里 .

中国专利 :CN110993482A ,2020-04-10

[2]

利用醇选择性还原和保护的选择性沉积 [P].

刘风全 ;

马伯方 ;

艾华 ;

吕疆 ;

张镁 ;

戴维·汤普森 .

中国专利 :CN106663614B ,2017-05-10

[3]

选择性钝化和选择性沉积 [P].

J.W.梅斯 ;

M.E.吉文斯 ;

S.P.霍卡 ;

V.帕鲁丘里 ;

I.J.拉伊杰马克斯 ;

邓少任 ;

A.伊利贝里 ;

E.E.托伊斯 ;

D.朗格里 ;

C.德泽拉 ;

M.图米恩 .

中国专利 :CN115679286A ,2023-02-03

[4]

使用水解的选择性沉积 [P].

丹尼斯·豪斯曼 ;

保罗·莱曼利 .

美国专利 :CN112005343B ,2025-05-06

[5]

使用水解的选择性沉积 [P].

丹尼斯·豪斯曼 ;

保罗·莱曼利 .

中国专利 :CN112005343A ,2020-11-27

[6]

通过选择性沉积的硅化物膜 [P].

S·斯里尼瓦桑 ;

A·玛里克 ;

N·布赖尔 .

美国专利 :CN117832071A ,2024-04-05

[7]

通过选择性沉积的硅化物膜 [P].

S·斯里尼瓦桑 ;

A·玛里克 ;

N·布赖尔 .

中国专利 :CN111602228A ,2020-08-28

[8]

金属膜的选择性沉积 [P].

尚陈 ;

俊晴渡会 ;

隆大小沼 ;

大石川 ;

邦年难波 .

中国专利 :CN109087885B ,2018-12-25

[9]

碳膜的选择性沉积及其使用 [P].

S·S·罗伊 ;

A·B·玛里克 .

中国专利 :CN113056808A ,2021-06-29

[10]

陶瓷选择性膜 [P].

利洛·D·波佐 ;

安东尼·威廉·莫雷蒂 ;

格雷戈里·M·纽勃姆 ;

亚伦·韦斯特 ;

伊顿·里弗斯 .

中国专利 :CN108602037A ,2018-09-28

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