通过选择性沉积的硅化物膜

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201880086359.1

申请日：

2018-12-14

公开(公告)号：

CN111602228A

公开(公告)日：

2020-08-28

发明(设计)人：

S·斯里尼瓦桑 A·玛里克 N·布赖尔

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L21285

IPC分类号：

H01L2102 H01L218238 C07F710 H01L2966 H01L2978 H01L2949 H01L21324

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

侯颖媖;张鑫

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-09-22	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/285 申请日:20181214
2020-08-28	公开	公开

共 50 条

[1]

通过选择性沉积的硅化物膜 [P].

S·斯里尼瓦桑 ;

A·玛里克 ;

N·布赖尔 .

美国专利 :CN117832071A ,2024-04-05

[2]

金属硅化物的选择性沉积 [P].

雷蒙德·洪 ;

金南成 ;

斯里尼瓦斯·内曼尼 ;

怡利·叶 ;

郑崔 ;

克里斯托弗·艾尔斯 ;

安德鲁·库梅尔 .

中国专利 :CN110945626A ,2020-03-31

[3]

选择性膜沉积 [P].

P·马 .

:CN120356823A ,2025-07-22

[4]

金属膜的选择性沉积 [P].

尚陈 ;

俊晴渡会 ;

隆大小沼 ;

大石川 ;

邦年难波 .

中国专利 :CN109087885B ,2018-12-25

[5]

金属硅化物的选择性沉积和选择性氧化物移除 [P].

雷蒙德·洪 ;

金南成 ;

斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ;

怡利·Y·叶 ;

郑崔 ;

克里斯托弗·艾尔斯 ;

安德鲁·库梅尔 .

中国专利 :CN113348532A ,2021-09-03

[6]

选择性钝化和选择性沉积 [P].

J·W·梅斯 ;

M·吉文斯 ;

S·豪卡 ;

V·帕鲁丘里 ;

I·拉伊梅克斯 ;

S·邓 ;

A·伊利贝里 ;

E·托伊斯 ;

D·朗格里 .

中国专利 :CN110993482A ,2020-04-10

[7]

金属膜的高选择性沉积方法 [P].

R·坎乔利亚 ;

M·蒙普尔 ;

J·伍德拉夫 ;

S·沃尔夫 ;

M·布里登 ;

S·T·乌达 ;

A·库梅尔 ;

A·阿努拉格 .

中国专利 :CN113166930A ,2021-07-23

[8]

含金属膜的区域选择性沉积 [P].

让-马克·吉拉尔 ;

卢沅泰 ;

李柱昊 .

法国专利 :CN115176332B ,2025-08-01

[9]

金属膜的高选择性沉积方法 [P].

R·坎乔利亚 ;

M·蒙普尔 ;

J·伍德拉夫 ;

S·沃尔夫 ;

M·布里登 ;

S·T·乌达 ;

A·库梅尔 ;

A·阿努拉格 .

德国专利 :CN113166930B ,2024-07-12

[10]

改进的区域选择性沉积 [P].

S·M·吉尔莫特瓦克 ;

K·卡谢尔 .

:CN120184089A ,2025-06-20

← 1 2 3 4 5 →