含金属膜的沉积

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202380084136.2

申请日：

2023-10-10

公开(公告)号：

CN120344714A

公开(公告)日：

2025-07-18

发明(设计)人：

大卫·约瑟夫·曼迪亚道格拉斯·沃尔特·阿格纽乔尔·大卫·史密斯马修·伯特伦·爱德华·格里菲思纳撒尼尔·埃尔巴·里奇亚历山大·雷·福克斯基莱·乔丹·布莱克内丹尼斯·M·豪斯曼罗郑硕照健·史蒂文·黎希瓦南达·克里希南·卡纳卡萨巴保蒂

申请人：

朗姆研究公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/18 C07F11/00 C23C16/04 H01L21/02

代理机构：

上海胜康律师事务所 31263

代理人：

李献忠;张华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-07-18	公开	公开
2025-08-05	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20231010

共 50 条

[1]

含金属膜的沉积和室清洁 [P].

达斯汀·扎卡里·奥斯丁 ;

布莱斯·以赛亚·埃德蒙森 ;

丹尼斯·M·豪斯曼 ;

马拉克·霍贾斯特赫 ;

马修·帕尔默·关 ;

爱思特·杰恩 ;

王宇希 ;

龚波 ;

安德鲁·约翰·麦克罗 ;

凯尔·瓦特·哈特 ;

雷切尔·E·巴策尔 ;

郭曈曈 ;

赫克托·亚伦·富斯特 ;

鲍里斯·沃洛斯基 ;

弗朗西斯科·J·华雷斯 ;

大卫·艾伦·唐斯 ;

埃米尔·C·德拉佩 ;

杰亚·普拉卡什·加内桑 ;

安·埃里克森 ;

塔凤金 .

美国专利 :CN119404286A ,2025-02-07

[2]

金属膜的沉积 [P].

尹炳勋 ;

雷伟 ;

柳尚澔 .

中国专利 :CN115003854A ,2022-09-02

[3]

金属膜的沉积 [P].

约瑟亚·科林斯 ;

格里芬·约翰·肯尼迪 ;

汉娜·班诺克尔 ;

帕特里克·范克利蒙布特 ;

塞沙萨耶·瓦拉达拉简 .

中国专利 :CN113366144A ,2021-09-07

[4]

金属膜的沉积 [P].

尹炳勋 ;

雷伟 ;

柳尚澔 .

美国专利 :CN115003854B ,2024-07-23

[5]

金属膜的沉积 [P].

阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ;

仓富敬 ;

海克·林 ;

伊诚·陈 ;

张镁 .

中国专利 :CN110024079A ,2019-07-16

[6]

金属膜沉积 [P].

雷雨 ;

李相协 ;

克里斯·帕贝里可 ;

徐翼 ;

河泰泓 ;

唐先民 ;

朴金河 .

中国专利 :CN112105758A ,2020-12-18

[7]

含金属膜的区域选择性沉积 [P].

让-马克·吉拉尔 ;

卢沅泰 ;

李柱昊 .

法国专利 :CN115176332B ,2025-08-01

[8]

纯金属膜的沉积 [P].

施卢蒂·维维克·托姆贝尔 ;

戈鲁恩·布泰尔 ;

帕特里克·A·范克利蒙布特 ;

伊拉尼特·费希尔 .

中国专利 :CN112513323A ,2021-03-16

[9]

金属膜的催化沉积 [P].

柳尚澔 ;

赛沙德利·甘古利 ;

尹炳勋 ;

陈伟民 .

美国专利 :CN112335021B ,2025-01-28

[10]

金属膜的催化沉积 [P].

柳尚澔 ;

赛沙德利·甘古利 ;

尹炳勋 ;

陈伟民 .

中国专利 :CN112335021A ,2021-02-05

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