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一种半导体产品刻蚀用清洗设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510602085.9
申请日：
2025-05-12
公开(公告)号：
CN120432409A
公开(公告)日：
2025-08-05
发明(设计)人：
卫志勇
田学超
高建
刘先兵
周扬
潘洪伟
申请人：
四川珂玛材料技术有限公司
申请人地址：
620800 四川省眉山市彭山经济开发区创新三路西段1号
IPC主分类号：
H01L21/67
IPC分类号：
B08B3/12
B08B13/00
H01L21/677
代理机构：
四川海慧新诚专利代理有限公司 51401
代理人：
江兴
法律状态：
公开
国省代码：
河北省
衡水市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-08-05 | 公开 | 公开 |
| 2025-08-22 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/67申请日:20250512 |