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一种用于干膜微结构的显影方法及制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510635052.4
申请日
:
2025-05-16
公开(公告)号
:
CN120406059A
公开(公告)日
:
2025-08-01
发明(设计)人
:
刘涛
吕欣妍
申请人
:
上海新微技术研发中心有限公司
申请人地址
:
201800 上海市嘉定区菊园新区胜竹路1399号2幢9层930室
IPC主分类号
:
G03F7/30
IPC分类号
:
G03F7/32
代理机构
:
苏州创智高诺知识产权代理有限公司 32843
代理人
:
白莉莉
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
上海市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-08-19
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/30申请日:20250516
2025-08-01
公开
公开
共 50 条
[1]
一种修饰SiCOH薄膜微结构的方法
[P].
丁士进
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丁士进
;
胡龙龙
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胡龙龙
;
付爽
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付爽
;
张卫
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张卫
;
王鹏飞
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王鹏飞
.
中国专利
:CN102386128A
,2012-03-21
[2]
一种干膜快速显影方法
[P].
付雷
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付雷
;
黄勇
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黄勇
;
周睿
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周睿
;
贺波
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贺波
.
中国专利
:CN106019861A
,2016-10-12
[3]
一种用于印制电路板的干膜显影液及其制备方法
[P].
冯红波
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冯红波
;
李灶保
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李灶保
.
中国专利
:CN107340693A
,2017-11-10
[4]
一种自对准结构MOSFET的制备方法
[P].
刘道国
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刘道国
.
中国专利
:CN115101418A
,2022-09-23
[5]
手性多瓣微结构的制备方法和装置
[P].
李家文
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李家文
;
刘顺利
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刘顺利
;
潘登
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潘登
;
李瑞
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李瑞
;
范胜颖
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范胜颖
;
吴东
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吴东
;
胡衍雷
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胡衍雷
;
褚家如
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褚家如
.
中国专利
:CN110501892A
,2019-11-26
[6]
一种具有盖孔与显影去膜能力的干膜、制备方法及应用
[P].
申有志
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机构:
苏州惠而兴高分子材料有限公司
苏州惠而兴高分子材料有限公司
申有志
;
李琴
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机构:
苏州惠而兴高分子材料有限公司
苏州惠而兴高分子材料有限公司
李琴
;
尹徐辉
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机构:
苏州惠而兴高分子材料有限公司
苏州惠而兴高分子材料有限公司
尹徐辉
.
中国专利
:CN121179846A
,2025-12-23
[7]
一种MEMS微结构的制备方法
[P].
姚日英
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姚日英
;
王祝山
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王祝山
;
张国华
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张国华
;
黄国华
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黄国华
.
中国专利
:CN103482563B
,2014-01-01
[8]
一种干膜显影工艺
[P].
魏志凌
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魏志凌
;
高小平
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高小平
;
樊春雷
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樊春雷
.
中国专利
:CN103207544A
,2013-07-17
[9]
一种显影装置及显影机
[P].
蒯乐
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
蒯乐
;
黄胜
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
黄胜
;
王忠诚
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
王忠诚
;
徐卫
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机构:
合肥晶合集成电路股份有限公司
合肥晶合集成电路股份有限公司
徐卫
.
中国专利
:CN220983720U
,2024-05-17
[10]
纳米微结构的制备方法
[P].
陈墨
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陈墨
;
张立辉
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张立辉
;
李群庆
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李群庆
;
范守善
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范守善
.
中国专利
:CN109103101B
,2018-12-28
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