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半导体结构及其制备工艺、发光阵列及其制备工艺
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510789776.4
申请日：
2025-06-13
公开(公告)号：
CN120640877A
公开(公告)日：
2025-09-12
发明(设计)人：
请求不公布姓名
申请人：
西湖烟山科技（杭州）有限公司
申请人地址：
310030 浙江省杭州市西湖区三墩镇智强路428号云创镓谷研发中心6号楼5层
IPC主分类号：
H10H29/80
IPC分类号：
H10H20/858
H10H29/01
H10H29/14
H10H20/01
代理机构：
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人：
黄立伟
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-09-12 | 公开 | 公开 |
| 2025-09-30 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):H10H 29/80申请日:20250613 |