提升光学邻近效应修正处理效率的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202211164145.6
申请日
2022-09-23
公开(公告)号
CN115494694B
公开(公告)日
2025-09-02
发明(设计)人
李萌
申请人
上海华力集成电路制造有限公司
申请人地址
201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室
IPC主分类号
G03F1/36
IPC分类号
代理机构
上海浦一知识产权代理有限公司 31211
代理人
刘昌荣
法律状态
授权
国省代码
上海市
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共 50 条
[1]
提升光学邻近效应修正处理效率的方法 [P]. 
李萌 .
中国专利 :CN115494694A ,2022-12-20
[2]
光学邻近效应修正的方法 [P]. 
谢昌志 ;
林本立 ;
陈明瑞 .
中国专利 :CN1403873A ,2003-03-19
[3]
光学邻近效应修正方法 [P]. 
许征 ;
孟鸿林 ;
储志浩 .
中国专利 :CN120469147A ,2025-08-12
[4]
光学邻近效应修正方法及其修正系统 [P]. 
乔彦辉 ;
王丹 ;
于世瑞 .
中国专利 :CN110456617A ,2019-11-15
[5]
光学邻近效应修正方法和系统 [P]. 
万金垠 ;
王谨恒 ;
张雷 ;
陈洁 .
中国专利 :CN106483758B ,2017-03-08
[6]
提升成像对比度的光学邻近效应修正方法 [P]. 
陈宪宏 ;
曾鼎程 ;
胡展源 .
中国专利 :CN115494693A ,2022-12-20
[7]
提升成像对比度的光学邻近效应修正方法 [P]. 
陈宪宏 ;
曾鼎程 ;
胡展源 .
中国专利 :CN115494693B ,2025-09-02
[8]
光学邻近效应修正中散射条的嵌入方法 [P]. 
吴宗晔 ;
叶甜春 ;
罗军 ;
赵杰 ;
王云 .
中国专利 :CN113031388A ,2021-06-25
[9]
用于光学邻近效应修正的方法、设备和介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN117389108A ,2024-01-12
[10]
用于光学邻近效应修正的方法、设备和介质 [P]. 
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 ;
请求不公布姓名 .
中国专利 :CN117389108B ,2024-03-12