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一种光刻机硅片传控方法及光刻机
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202311246496.6
申请日：
2023-09-26
公开(公告)号：
CN117170195B
公开(公告)日：
2025-09-19
发明(设计)人：
张琪
符友银
申请人：
新毅东（北京）科技有限公司
申请人地址：
102600 北京市大兴区北京经济技术开发区荣昌东街甲5号3号楼1层101-8
IPC主分类号：
G03F7/20
IPC分类号：
代理机构：
苏州友佳知识产权代理事务所(普通合伙) 32351
代理人：
储振
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-09-19 | 授权 | 授权 |
| 2024-12-06 | 著录事项变更 | 著录事项变更IPC(主分类):G03F 7/20变更事项:申请人变更前:新毅东（上海）科技有限公司变更后:新毅东（北京）科技有限公司变更事项:国家或地区变更前:中国变更后:中国变更事项:地址变更前:上海市青浦区华新镇北青公路3888号20幢变更后:102600 北京市大兴区北京经济技术开发区荣昌东街甲5号3号楼1层101-8 |