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金属氧化膜形成用组成物、图案形成方法、及金属氧化膜形成方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202310824185.7
申请日：
2023-07-06
公开(公告)号：
CN117363058B
公开(公告)日：
2025-09-26
发明(设计)人：
小林直贵
长町伸宏
郡大佑
申请人：
信越化学工业株式会社
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
C09D1/00
IPC分类号：
G03F7/20
G03F7/30
C09D7/63
代理机构：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人：
刘新宇;李茂家
法律状态：
公开
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2024-01-09 | 公开 | 公开 |
| 2025-09-26 | 授权 | 授权 |
| 2024-01-26 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效IPC(主分类):C09D 1/00申请日:20230706 |