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LDMOS晶体管及其制作方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510879883.6
申请日
:
2025-06-27
公开(公告)号
:
CN120769530A
公开(公告)日
:
2025-10-10
发明(设计)人
:
唐浩
张可
李业超
申请人
:
重庆芯联微电子有限公司
申请人地址
:
401331 重庆市沙坪坝区高新区西永街道西永大道28-2号SOHO楼601-A153
IPC主分类号
:
H10D30/01
IPC分类号
:
H10D30/65
代理机构
:
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人
:
罗泳文
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-10
公开
公开
2025-10-28
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H10D 30/01申请日:20250627
共 50 条
[1]
LDMOS晶体管及其制作方法
[P].
刘金华
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
刘金华
.
中国专利
:CN103187444B
,2013-07-03
[2]
LDMOS晶体管及其制作方法
[P].
曹国豪
论文数:
0
引用数:
0
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0
曹国豪
;
郑大燮
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
郑大燮
.
中国专利
:CN103050528A
,2013-04-17
[3]
LDMOS晶体管及其制作方法
[P].
G·马
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
G·马
;
C·阿伦斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
C·阿伦斯
.
中国专利
:CN1947262B
,2007-04-11
[4]
一种LDMOS晶体管及其制作方法
[P].
姜钦
论文数:
0
引用数:
0
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0
姜钦
;
于绍欣
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
于绍欣
.
中国专利
:CN114823345B
,2022-07-29
[5]
晶体管及其制作方法
[P].
三重野文健
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
三重野文健
.
中国专利
:CN102569394B
,2012-07-11
[6]
晶体管及其制作方法
[P].
三重野文健
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
三重野文健
.
中国专利
:CN102543744B
,2012-07-04
[7]
射频LDMOS晶体管及其制作方法
[P].
邓小川
论文数:
0
引用数:
0
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0
邓小川
;
刘冬冬
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘冬冬
;
梁坤元
论文数:
0
引用数:
0
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0
梁坤元
;
甘志
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
甘志
.
中国专利
:CN105742365A
,2016-07-06
[8]
EDMOS晶体管及其制作方法
[P].
吴小利
论文数:
0
引用数:
0
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0
吴小利
.
中国专利
:CN102097485A
,2011-06-15
[9]
LDMOS晶体管及其制备方法
[P].
李敏
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
李敏
;
季明华
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
季明华
;
张汝京
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
张汝京
.
中国专利
:CN113838906B
,2024-01-09
[10]
CMOS晶体管及其制作方法
[P].
陈亮
论文数:
0
引用数:
0
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陈亮
;
杨林宏
论文数:
0
引用数:
0
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0
杨林宏
.
中国专利
:CN101930947B
,2010-12-29
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