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晶圆处理装置、晶圆处理系统和方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202411821401.3
申请日
:
2024-12-11
公开(公告)号
:
CN119560429B
公开(公告)日
:
2025-09-30
发明(设计)人
:
张建
王超群
陈兴隆
申请人
:
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
申请人地址
:
110180 辽宁省沈阳市浑南区飞云路16号
IPC主分类号
:
H01L21/677
IPC分类号
:
代理机构
:
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286
代理人
:
吴浩
法律状态
:
公开
国省代码
:
辽宁省 沈阳市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-03-04
公开
公开
2025-09-30
授权
授权
2025-03-21
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/677申请日:20241211
共 50 条
[1]
晶圆处理装置、晶圆处理系统和方法
[P].
张建
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
张建
;
王超群
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
沈阳芯源微电子设备股份有限公司
王超群
;
论文数:
引用数:
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机构:
陈兴隆
.
中国专利
:CN119560429A
,2025-03-04
[2]
晶圆处理装置、晶圆处理方法及晶圆处理系统
[P].
李永杰
论文数:
0
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0
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0
机构:
深圳市鹏新旭技术有限公司
深圳市鹏新旭技术有限公司
李永杰
;
刘达
论文数:
0
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0
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0
机构:
深圳市鹏新旭技术有限公司
深圳市鹏新旭技术有限公司
刘达
.
中国专利
:CN120854249A
,2025-10-28
[3]
晶圆处理方法及晶圆处理系统
[P].
杨永兴
论文数:
0
引用数:
0
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0
杨永兴
;
王国峰
论文数:
0
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0
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0
王国峰
.
中国专利
:CN115483136A
,2022-12-16
[4]
晶圆处理系统及晶圆处理方法
[P].
金亨源
论文数:
0
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0
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机构:
吉佳蓝科技股份有限公司
吉佳蓝科技股份有限公司
金亨源
;
蔡熙星
论文数:
0
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机构:
吉佳蓝科技股份有限公司
吉佳蓝科技股份有限公司
蔡熙星
;
郑熙锡
论文数:
0
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0
机构:
吉佳蓝科技股份有限公司
吉佳蓝科技股份有限公司
郑熙锡
.
韩国专利
:CN116013806B
,2024-04-26
[5]
晶圆的处理方法和晶圆的处理系统
[P].
夏余平
论文数:
0
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夏余平
;
顾立勋
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0
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0
顾立勋
;
徐融
论文数:
0
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0
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徐融
;
任德营
论文数:
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0
任德营
.
中国专利
:CN111243944A
,2020-06-05
[6]
晶圆处理方法和晶圆处理装置
[P].
张胜权
论文数:
0
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0
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
张胜权
.
中国专利
:CN119179238A
,2024-12-24
[7]
晶圆处理方法和晶圆处理装置
[P].
刘洋
论文数:
0
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
刘洋
;
张晓燕
论文数:
0
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
张晓燕
;
胡海波
论文数:
0
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
胡海波
;
刘阳
论文数:
0
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0
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0
机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
刘阳
;
胡耕
论文数:
0
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0
机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
胡耕
;
邓雪飞
论文数:
0
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
邓雪飞
;
周世豪
论文数:
0
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0
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0
机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
周世豪
.
中国专利
:CN120453189A
,2025-08-08
[8]
晶圆处理设备及晶圆处理系统
[P].
田建辉
论文数:
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引用数:
0
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0
机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
田建辉
;
岳超俊
论文数:
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
岳超俊
.
中国专利
:CN223273227U
,2025-08-26
[9]
晶圆处理方法及晶圆处理装置
[P].
王剑平
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王剑平
;
陈建宏
论文数:
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陈建宏
;
篮国玮
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篮国玮
;
操津津
论文数:
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操津津
.
中国专利
:CN113707543A
,2021-11-26
[10]
晶圆处理腔、晶圆处理装置和晶圆处理设备
[P].
王晖
论文数:
0
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
王晖
;
顾建国
论文数:
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
顾建国
;
田连刚
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
田连刚
;
朱志君
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
朱志君
;
金京俊
论文数:
0
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
金京俊
;
陈国强
论文数:
0
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
陈国强
;
贺斌
论文数:
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机构:
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
盛美半导体设备(上海)股份有限公司
贺斌
.
中国专利
:CN120727549A
,2025-09-30
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