エッチング副生成物のセルフクリーニング（自己洗浄）を伴うドライエッチング[ja]

被引：0

申请号：

JP20250519920

申请日：

2023-10-09

公开(公告)号：

JP2025535076A

公开(公告)日：

2025-10-22

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

H01L21/3065

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法律状态信息

共 50 条

[1]

ドライエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2008032627A1 ,2010-01-21

[2]

エッチング方法およびエッチング装置[ja] [P].

日本专利 :JP2023551348A ,2023-12-08

[3]

エッチング方法およびエッチング装置[ja] [P].

IGARASHI YOSHIKI ;

KIKUSHIMA SATORU ;

SUGA TAKAYUKI ;

HAYASHI GUN ;

CHU CHENGYA .

日本专利 :JP2024113174A ,2024-08-21

[4]

シリコンチップのエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023549813A ,2023-11-29

[5]

エッチング組成物[ja] [P].

日本专利 :JP2022530669A ,2022-06-30

[6]

化学蒸着エッチングチャンバから副生成物の堆積物を除去するインサイチュチャンバ洗浄プロセス[ja] [P].

日本专利 :JP5698719B2 ,2015-04-08

[7]

プラズマエッチング方法及びプラズマエッチング装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2014046083A1 ,2016-08-18

[8]

メタルハードマスクのエッチング方法[ja] [P].

日本专利 :JP2023550842A ,2023-12-05

[9]

ポリエチレンリサイクル材ブレンド生成物[ja] [P].

日本专利 :JP2025525806A ,2025-08-07

[10]

エッチング方法及び装置[ja] [P].

日本专利 :JPWO2013008878A1 ,2015-02-23

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