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印刷配线基板用曝光装置、曝光方法、印刷配线基板的制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202380097259.X
申请日
:
2023-04-19
公开(公告)号
:
CN121002448A
公开(公告)日
:
2025-11-21
发明(设计)人
:
大谷义和
山冈裕
仓田昌实
宇佐美健人
申请人
:
信越工程株式会社
申请人地址
:
日本东京千代田区神田锦町2丁目9番地
IPC主分类号
:
G03F7/20
IPC分类号
:
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
张娜
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-12-09
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20230419
2025-11-21
公开
公开
共 50 条
[1]
印刷配线基板的制造方法以及印刷配线基板
[P].
南高一
论文数:
0
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南高一
;
佐藤真隆
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佐藤真隆
;
荻洼真也
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荻洼真也
;
原未奈子
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原未奈子
.
中国专利
:CN103202107B
,2013-07-10
[2]
印刷配线基板及印刷配线基板的制造方法
[P].
渡边宽人
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渡边宽人
;
永尾晴美
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永尾晴美
.
中国专利
:CN101594737B
,2009-12-02
[3]
印刷配线基板装置的制造方法
[P].
山田哲司
论文数:
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山田哲司
.
中国专利
:CN103025078A
,2013-04-03
[4]
印刷配线基板
[P].
坂田哲也
论文数:
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0
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坂田哲也
.
中国专利
:CN204259279U
,2015-04-08
[5]
印刷配线基板
[P].
木村昌义
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木村昌义
;
兼平智広
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兼平智広
;
山中规至
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山中规至
.
中国专利
:CN108886875B
,2018-11-23
[6]
配线基板的制造方法、配线基板、光掩模及曝光描绘数据结构
[P].
东之崎庆
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
东之崎庆
;
岩下健一
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
岩下健一
;
吉原谦介
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
吉原谦介
;
鸟羽正也
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
鸟羽正也
.
日本专利
:CN119156891A
,2024-12-17
[7]
印刷配线基板用预浸料以及印刷配线基板
[P].
北河享
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北河享
;
雾山晃平
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雾山晃平
;
渡拔政治
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渡拔政治
;
原园正昭
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原园正昭
;
长泽忠
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长泽忠
.
中国专利
:CN102056970A
,2011-05-11
[8]
配线基板的制造方法和配线基板
[P].
成泽良明
论文数:
0
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0
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成泽良明
.
中国专利
:CN106463471B
,2017-02-22
[9]
制造配线基板的方法及配线基板
[P].
东之崎庆
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
东之崎庆
;
满仓一行
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
满仓一行
;
鸟羽正也
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
鸟羽正也
;
岩下健一
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
岩下健一
;
小野敬司
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
小野敬司
;
成田真生
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机构:
株式会社力森诺科
株式会社力森诺科
成田真生
.
日本专利
:CN117796162A
,2024-03-29
[10]
配线基板的制造方法、配线基板
[P].
塚本直树
论文数:
0
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塚本直树
.
中国专利
:CN109479372A
,2019-03-15
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