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一种晶圆研磨头及晶圆研磨设备
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN202422556765.5
申请日
:
2024-10-22
公开(公告)号
:
CN223532196U
公开(公告)日
:
2025-11-11
发明(设计)人
:
田小勇
申请人
:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
申请人地址
:
266000 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401
IPC主分类号
:
B24B37/11
IPC分类号
:
B24B37/34
B24B37/00
B24B37/015
B24B55/02
代理机构
:
上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286
代理人
:
吴浩
法律状态
:
授权
国省代码
:
山东省 青岛市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-11-11
授权
授权
共 50 条
[1]
晶圆研磨设备
[P].
史爱波
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史爱波
.
中国专利
:CN203863494U
,2014-10-08
[2]
晶圆研磨设备及晶圆研磨方法
[P].
孙永康
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
孙永康
;
夏汇哲
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
夏汇哲
;
臧志城
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
臧志城
;
王斌超
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
王斌超
;
张俊铠
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
张俊铠
.
中国专利
:CN119609936A
,2025-03-14
[3]
晶圆研磨方法及晶圆研磨设备
[P].
张林夕
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
张林夕
;
刘畅畅
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
刘畅畅
;
章学安
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
章学安
.
中国专利
:CN118219164A
,2024-06-21
[4]
晶圆研磨设备
[P].
中村由夫
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中村由夫
;
大塚美雄
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大塚美雄
;
大久保贵史
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大久保贵史
;
澁谷和孝
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澁谷和孝
;
布施贵之
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布施贵之
;
原史朗
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原史朗
;
耸嘛玩
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耸嘛玩
;
池田伸一
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池田伸一
.
中国专利
:CN103846781A
,2014-06-11
[5]
晶圆研磨设备
[P].
周小红
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周小红
;
蒋阳波
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蒋阳波
.
中国专利
:CN208428101U
,2019-01-25
[6]
晶圆研磨装置以及晶圆研磨设备
[P].
李光照
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
李光照
;
陈慧新
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
陈慧新
;
张一帆
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机构:
浙江创芯集成电路有限公司
浙江创芯集成电路有限公司
张一帆
.
中国专利
:CN119609909A
,2025-03-14
[7]
研磨头及晶圆研磨装置
[P].
崔世勋
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崔世勋
.
中国专利
:CN111168561B
,2020-05-19
[8]
晶圆研磨装置及研磨头
[P].
田得暄
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田得暄
;
林宗贤
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林宗贤
;
吴龙江
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吴龙江
;
辛君
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辛君
.
中国专利
:CN108161711A
,2018-06-15
[9]
晶圆研磨头及晶圆吸附方法
[P].
杨贵璞
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杨贵璞
;
王坚
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王坚
;
王晖
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王晖
.
中国专利
:CN104942697B
,2015-09-30
[10]
晶圆研磨装置及晶圆研磨方法
[P].
周庆亚
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
周庆亚
;
李伟
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
李伟
;
刘福强
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北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
刘福强
;
孟晓云
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机构:
北京晶亦精微科技股份有限公司
北京晶亦精微科技股份有限公司
孟晓云
.
中国专利
:CN118456276A
,2024-08-09
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