原子层沉积方法及用于在衬底上沉积层的相关方法

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专利类型
发明
申请号
CN202510488137.4
申请日
2025-04-18
公开(公告)号
CN120830091A
公开(公告)日
2025-10-24
发明(设计)人
J·L·温克勒
申请人
ASMIP私人控股有限公司
申请人地址
荷兰阿尔梅勒
IPC主分类号
C23C16/455
IPC分类号
C23C16/52
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
王冉
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[21]
原子层沉积装置及原子层沉积的制造方法 [P]. 
杨士逸 .
中国专利 :CN120174344A ,2025-06-20
[22]
原子层沉积的喷淋密封结构及原子层沉积设备 [P]. 
黄政 ;
刘劲麟 ;
倪永金 .
中国专利 :CN222631548U ,2025-03-18
[23]
用于原子层沉积设备的气体调节装置及原子层沉积设备 [P]. 
李正栋 ;
李亚涛 .
中国专利 :CN120366744A ,2025-07-25
[24]
原子层沉积用承载舟及原子层沉积设备 [P]. 
黄政 ;
孙家兴 ;
陈培宁 .
中国专利 :CN222455207U ,2025-02-11
[25]
原子层沉积方法以及原子层沉积系统 [P]. 
邵大立 ;
史皓然 ;
齐彪 ;
李宇晗 ;
陆淋康 ;
刘子婵 ;
马敬忠 .
中国专利 :CN117265510B ,2024-02-27
[26]
原子层沉积方法和原子层沉积装置 [P]. 
佐藤英儿 ;
坂本仁志 .
日本专利 :CN120153123A ,2025-06-13
[27]
原子层沉积装置和原子层沉积方法 [P]. 
龟田直人 ;
三浦敏德 ;
花仓满 .
中国专利 :CN114286875A ,2022-04-05
[28]
原子层沉积装置和原子层沉积方法 [P]. 
长井博之 ;
桑山哲朗 .
中国专利 :CN104141117B ,2014-11-12
[29]
用于原子层沉积的系统和方法 [P]. 
E·J·C·刘 .
中国专利 :CN109666921A ,2019-04-23
[30]
原子层沉积设备的进气装置及原子层沉积设备 [P]. 
张璞 ;
刘亚男 ;
李靖 .
中国专利 :CN223561687U ,2025-11-18