用于原子层沉积设备的气体调节装置及原子层沉积设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202510668473.7

申请日：

2025-05-22

公开(公告)号：

CN120366744A

公开(公告)日：

2025-07-25

发明(设计)人：

李正栋李亚涛

申请人：

芯恩（青岛）集成电路有限公司

申请人地址：

266000 山东省青岛市黄岛区太白山路19号德国企业南区401

IPC主分类号：

C23C16/455

IPC分类号：

C23C16/52

代理机构：

上海恒锐佳知识产权代理事务所(普通合伙) 31286

代理人：

黄海霞

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

山东省青岛市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-08-12	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 16/455申请日:20250522
2025-07-25	公开	公开

共 50 条

[1]

原子层沉积设备及原子层沉积喷淋装置 [P].

邵大立 ;

齐彪 ;

马敬忠 .

中国专利 :CN115404463A ,2022-11-29

[2]

原子层沉积设备的进气装置及原子层沉积设备 [P].

张璞 ;

刘亚男 ;

李靖 .

中国专利 :CN223561687U ,2025-11-18

[3]

原子层沉积设备的进气装置及原子层沉积设备 [P].

纪红 ;

赵培洋 ;

赵可可 .

中国专利 :CN113416945A ,2021-09-21

[4]

原子层沉积方法和原子层沉积设备 [P].

古尔特基·S·桑赫 ;

特鲁格·特里·多恩 .

中国专利 :CN100346448C ,2005-10-26

[5]

原子层沉积设备 [P].

王祥慧 .

中国专利 :CN105463407A ,2016-04-06

[6]

原子层沉积设备 [P].

曹建伟 ;

朱凌锋 ;

陈培杰 ;

胡汉彦 ;

张华敏 ;

刘海博 ;

罗丹 .

中国专利 :CN221608192U ,2024-08-27

[7]

原子层沉积设备 [P].

周友华 ;

庄国胜 .

中国专利 :CN106978599A ,2017-07-25

[8]

原子层沉积设备 [P].

杭天华 .

中国专利 :CN304842776S ,2018-10-09

[9]

原子层沉积设备 [P].

孙文檠 ;

钟允升 ;

蓝崇文 .

中国专利 :CN101736317A ,2010-06-16

[10]

原子层沉积设备 [P].

王良栋 ;

陈金良 ;

宋维聪 ;

李文涛 .

中国专利 :CN222861631U ,2025-05-13

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