原子层沉积设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201611043342.7
申请日
2016-11-11
公开(公告)号
CN106978599A
公开(公告)日
2017-07-25
发明(设计)人
周友华 庄国胜
申请人
申请人地址
中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号
IPC主分类号
C23C16455
IPC分类号
C23C1652
代理机构
南京正联知识产权代理有限公司 32243
代理人
顾伯兴
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
原子层沉积方法和原子层沉积设备 [P]. 
古尔特基·S·桑赫 ;
特鲁格·特里·多恩 .
中国专利 :CN100346448C ,2005-10-26
[2]
原子层沉积设备 [P]. 
潘丽君 ;
张恩慈 ;
陈庆尧 ;
白海健 .
中国专利 :CN220364583U ,2024-01-19
[3]
原子层沉积设备 [P]. 
智顺华 ;
钱一萍 ;
许所昌 ;
吴飚 ;
周仁 .
中国专利 :CN115613009A ,2023-01-17
[4]
原子层沉积膜制备方法及原子层沉积设备 [P]. 
陈蓉 ;
叶容利 ;
曹坤 ;
单斌 ;
王威振 .
中国专利 :CN119121187A ,2024-12-13
[5]
原子层沉积设备机柜 [P]. 
逯文冬 ;
耿晨宇 ;
郑锦 ;
黄省三 .
中国专利 :CN305679664S ,2020-04-03
[6]
原子层沉积设备 [P]. 
王祥慧 .
中国专利 :CN105463407A ,2016-04-06
[7]
原子层沉积设备 [P]. 
曹建伟 ;
朱凌锋 ;
陈培杰 ;
胡汉彦 ;
张华敏 ;
刘海博 ;
罗丹 .
中国专利 :CN221608192U ,2024-08-27
[8]
原子层沉积设备 [P]. 
杭天华 .
中国专利 :CN304842776S ,2018-10-09
[9]
原子层沉积设备 [P]. 
孙文檠 ;
钟允升 ;
蓝崇文 .
中国专利 :CN101736317A ,2010-06-16
[10]
原子层沉积设备 [P]. 
王良栋 ;
陈金良 ;
宋维聪 ;
李文涛 .
中国专利 :CN222861631U ,2025-05-13