原子层沉积设备

被引：0

申请号：

CN202211369288.0

申请日：

2022-11-03

公开(公告)号：

CN115613009A

公开(公告)日：

2023-01-17

发明(设计)人：

智顺华钱一萍许所昌吴飚周仁

申请人：

申请人地址：

214028 江苏省无锡市新吴区新硕路9-6-2

IPC主分类号：

C23C16455

IPC分类号：

代理机构：

北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287

代理人：

奚勇

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-01-17	公开	公开
2023-02-10	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/455 申请日:20221103

共 50 条

[1]

原子层沉积方法和原子层沉积设备 [P].

古尔特基·S·桑赫 ;

特鲁格·特里·多恩 .

中国专利 :CN100346448C ,2005-10-26

[2]

原子层沉积设备 [P].

周友华 ;

庄国胜 .

中国专利 :CN106978599A ,2017-07-25

[3]

原子层沉积设备 [P].

潘丽君 ;

张恩慈 ;

陈庆尧 ;

白海健 .

中国专利 :CN220364583U ,2024-01-19

[4]

原子层沉积膜制备方法及原子层沉积设备 [P].

陈蓉 ;

叶容利 ;

曹坤 ;

单斌 ;

王威振 .

中国专利 :CN119121187A ,2024-12-13

[5]

原子层沉积设备机柜 [P].

逯文冬 ;

耿晨宇 ;

郑锦 ;

黄省三 .

中国专利 :CN305679664S ,2020-04-03

[6]

原子层沉积设备 [P].

王祥慧 .

中国专利 :CN105463407A ,2016-04-06

[7]

原子层沉积设备 [P].

曹建伟 ;

朱凌锋 ;

陈培杰 ;

胡汉彦 ;

张华敏 ;

刘海博 ;

罗丹 .

中国专利 :CN221608192U ,2024-08-27

[8]

原子层沉积设备 [P].

杭天华 .

中国专利 :CN304842776S ,2018-10-09

[9]

原子层沉积设备 [P].

孙文檠 ;

钟允升 ;

蓝崇文 .

中国专利 :CN101736317A ,2010-06-16

[10]

原子层沉积设备 [P].

王良栋 ;

陈金良 ;

宋维聪 ;

李文涛 .

中国专利 :CN222861631U ,2025-05-13

← 1 2 3 4 5 →