三维半导体装置和制造该三维半导体装置的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202411636970.0
申请日
2024-11-15
公开(公告)号
CN120835594A
公开(公告)日
2025-10-24
发明(设计)人
黄东勋 全在镐 金孝珍 文炳镐 朴敬美 杨永镇
申请人
三星电子株式会社
申请人地址
韩国京畿道
IPC主分类号
H10D62/10
IPC分类号
H10D84/83 H10D84/85 H10D84/03
代理机构
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
赵南;张帆
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
三维半导体装置结构和三维半导体装置 [P]. 
杰弗里·P·甘比诺 ;
S·伯萨克 .
中国专利 :CN214672598U ,2021-11-09
[2]
三维半导体装置和形成三维半导体装置的方法 [P]. 
金俊亨 ;
申重植 ;
金光洙 .
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[3]
三维半导体装置 [P]. 
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[4]
三维半导体装置 [P]. 
尹壮根 ;
任峻成 ;
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中国专利 :CN110364533A ,2019-10-22
[5]
三维半导体装置 [P]. 
郑恩宅 ;
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[6]
三维半导体装置 [P]. 
梁辰旭 ;
朴星一 ;
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三维半导体装置 [P]. 
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三维半导体装置 [P]. 
卢昶佑 ;
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朴宰贤 .
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[9]
三维半导体装置 [P]. 
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三维半导体装置 [P]. 
郑宸语 ;
韩宗廷 .
中国专利 :CN118870823A ,2024-10-29