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一种GaN基CMOS器件及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202210988175.2
申请日
:
2022-08-17
公开(公告)号
:
CN115497938B
公开(公告)日
:
2025-10-17
发明(设计)人
:
卢星
裴艳丽
成声亮
陈梓敏
王钢
申请人
:
中山大学
申请人地址
:
510275 广东省广州市新港西路135号
IPC主分类号
:
H10D84/85
IPC分类号
:
H10D62/17
H10D84/08
代理机构
:
广州海心联合专利代理事务所(普通合伙) 44295
代理人
:
冼俊鹏
法律状态
:
授权
国省代码
:
广东省 广州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-10-17
授权
授权
共 50 条
[1]
一种GaN基CMOS器件及其制备方法
[P].
卢星
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卢星
;
裴艳丽
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裴艳丽
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成声亮
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成声亮
;
陈梓敏
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陈梓敏
;
王钢
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王钢
.
中国专利
:CN115497938A
,2022-12-20
[2]
一种GaN基CMOS器件及其制备方法
[P].
敖金平
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敖金平
;
蒲涛飞
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蒲涛飞
;
李柳岸
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李柳岸
;
李小波
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李小波
.
中国专利
:CN111627908A
,2020-09-04
[3]
一种GaN基CMOS器件及其制备方法
[P].
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机构:
敖金平
;
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机构:
朱霞
;
左敏
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机构:
江南大学
江南大学
左敏
;
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机构:
王霄
;
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机构:
李杨
;
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机构:
陈治伟
;
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机构:
白利华
.
中国专利
:CN116153933B
,2025-11-04
[4]
一种N面GaN基CMOS器件及其制备方法
[P].
武玫
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武玫
;
牛雪锐
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牛雪锐
;
侯斌
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侯斌
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杨凌
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杨凌
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张濛
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张濛
;
朱青
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朱青
;
王冲
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王冲
;
马晓华
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马晓华
;
郝跃
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郝跃
.
中国专利
:CN114446892A
,2022-05-06
[5]
一种N面GaN基CMOS器件及其制备方法
[P].
论文数:
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机构:
武玫
;
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机构:
牛雪锐
;
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机构:
侯斌
;
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杨凌
;
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机构:
张濛
;
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机构:
朱青
;
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机构:
王冲
;
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机构:
马晓华
;
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机构:
郝跃
.
中国专利
:CN114446892B
,2024-02-09
[6]
一种金属极性与氮极性结合的GaN基CMOS器件及其制备方法
[P].
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机构:
张源涛
;
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张立东
;
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机构:
邓高强
;
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机构:
左长财
.
中国专利
:CN117613052A
,2024-02-27
[7]
一种金属极性与氮极性结合的GaN基CMOS器件及其制备方法
[P].
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机构:
张源涛
;
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机构:
张立东
;
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机构:
邓高强
;
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机构:
左长财
.
中国专利
:CN117613052B
,2025-05-02
[8]
一种CMOS器件及其制备方法
[P].
刘聪
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
刘聪
;
孟昭生
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
孟昭生
;
董信国
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机构:
上海积塔半导体有限公司
上海积塔半导体有限公司
董信国
.
中国专利
:CN120152371A
,2025-06-13
[9]
一种CMOS器件及其制备方法
[P].
卢越野
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
卢越野
;
张帅君
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
张帅君
;
耿金鹏
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
耿金鹏
.
中国专利
:CN119866054A
,2025-04-22
[10]
CMOS器件及其制备方法
[P].
毛淑娟
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毛淑娟
;
罗军
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罗军
;
许静
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许静
.
中国专利
:CN109671621B
,2019-04-23
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