光刻胶输送装置和半导体加工设备

被引:0
专利类型
实用新型
申请号
CN202422633556.6
申请日
2024-10-30
公开(公告)号
CN223517878U
公开(公告)日
2025-11-07
发明(设计)人
王进钦 田龙 方震宇
申请人
重庆芯联微电子有限公司
申请人地址
401332 重庆市沙坪坝区高新区西永街道西永大道28-2号SOHO楼601-A153
IPC主分类号
B05C11/10
IPC分类号
H01L21/67
代理机构
上海思捷知识产权代理有限公司 31295
代理人
张敏
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
光刻胶输送装置 [P]. 
王也平 .
中国专利 :CN101738867A ,2010-06-16
[2]
一种光刻胶输送胶泵 [P]. 
魏猛 ;
张爽 ;
张也 .
中国专利 :CN120790453A ,2025-10-17
[3]
光刻胶供应装置和光刻胶供应系统 [P]. 
徐阳 ;
余坚 ;
纪开勋 ;
杜龙 ;
李晨 .
中国专利 :CN217767184U ,2022-11-08
[4]
一种光刻胶输送装置 [P]. 
林高弘 .
中国专利 :CN221686814U ,2024-09-10
[5]
一种半导体晶圆光刻胶涂布装置 [P]. 
由振琪 .
中国专利 :CN215918024U ,2022-03-01
[6]
半导体加工设备的流体输送系统及半导体加工设备 [P]. 
李华 .
中国专利 :CN212934559U ,2021-04-09
[7]
光刻胶涂布装置 [P]. 
李明欣 ;
朱成云 ;
古哲安 ;
黄志凯 ;
叶日铨 .
中国专利 :CN208126101U ,2018-11-20
[8]
半导体边缘光刻胶去除方法 [P]. 
薛广杰 ;
胡华 ;
李赟 .
中国专利 :CN110568730A ,2019-12-13
[9]
一种半导体光刻胶高效清洁装置 [P]. 
茆宏 ;
宁江斌 ;
郁言威 ;
高兴 ;
陆嘉黎 ;
李民 ;
王耽耽 .
中国专利 :CN223611839U ,2025-11-28
[10]
半导体基底光刻胶的去除方法和光刻胶的图案化方法 [P]. 
马欢 ;
陈凯 ;
罗波涛 ;
殷瑞腾 .
中国专利 :CN120578014A ,2025-09-02