用于区域选择性沉积的保护性覆盖层

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480019679.0

申请日：

2024-03-26

公开(公告)号：

CN120883322A

公开(公告)日：

2025-10-31

发明(设计)人：

安德里亚·列奥尼

申请人：

应用材料公司

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01L21/02

IPC分类号：

H01L21/285

代理机构：

北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006

代理人：

徐金国;吴启超

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-31	公开	公开
2025-11-18	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):H01L 21/02申请日:20240326

共 50 条

[1]

区域选择性沉积 [P].

J·黄 ;

K·K·卡谢尔 .

:CN120866812A ,2025-10-31

[2]

定向选择性沉积 [P].

巴加夫·S·西特拉 ;

索哈姆·阿萨尼 ;

约书亚·鲁布尼茨 ;

斯里尼瓦斯·D·内曼尼 ;

怡利·Y·叶 .

美国专利 :CN118020141A ,2024-05-10

[3]

掩模材料的区域选择性沉积 [P].

曾文德 ;

E·阿尔塔米拉诺桑切兹 .

中国专利 :CN110504162B ,2019-11-26

[4]

改进的区域选择性沉积 [P].

S·M·吉尔莫特瓦克 ;

K·卡谢尔 .

:CN120184089A ,2025-06-20

[5]

选择性硅沉积 [P].

Y·周 ;

符谦 .

美国专利 :CN118103950A ,2024-05-28

[6]

用于区域选择性沉积的方法和设备 [P].

张超 ;

M·里塔拉 .

:CN120249935A ,2025-07-04

[7]

一种区域选择性沉积的方法 [P].

于严淏 ;

李春 .

中国专利 :CN115386854A ,2022-11-25

[8]

一种区域选择性沉积的方法 [P].

于严淏 ;

李春 .

中国专利 :CN115386854B ,2024-01-16

[9]

透过表面硅化的区域选择性沉积 [P].

王新科 ;

沈泽清 ;

苏米特·辛格·罗伊 ;

阿卜希吉特·巴苏·马尔利克 ;

巴斯卡尔·乔蒂·布雅 ;

唐杰丛 ;

约翰·苏迪约诺 ;

刘龙 .

美国专利 :CN120112674A ,2025-06-06

[10]

选择性钝化和选择性沉积 [P].

J.W.梅斯 ;

M.E.吉文斯 ;

S.P.霍卡 ;

V.帕鲁丘里 ;

I.J.拉伊杰马克斯 ;

邓少任 ;

A.伊利贝里 ;

E.E.托伊斯 ;

D.朗格里 ;

C.德泽拉 ;

M.图米恩 .

中国专利 :CN115679286A ,2023-02-03

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