一种高纯度溅射靶材生产工艺

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202511574104.8

申请日：

2025-10-31

公开(公告)号：

CN121046794A

公开(公告)日：

2025-12-02

发明(设计)人：

柴兴臣崔程明柴家栋李卫杰许亚洲姜键宁李建宗张庭杰李航杰宋超杰曹克道陈文斌

申请人：

上海郑璞金属材料有限公司郑州欣昌新材料有限公司

申请人地址：

200333 上海市普陀区曹杨路1888弄11号8楼803室-H

IPC主分类号：

C23C14/34

IPC分类号：

C22F1/08 C22B15/14 C25C1/12 C22B9/04 C22F1/02

代理机构：

郑州政辰知识产权代理事务所(普通合伙) 41273

代理人：

樊超越

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

河南省郑州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-19	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):C23C 14/34申请日:20251031
2025-12-02	公开	公开

共 50 条

[1]

高纯度铜溅射靶材 [P].

森晓 ;

谷雨 ;

佐藤雄次 ;

菊池文武 ;

荒井公 .

中国专利 :CN107923034A ,2018-04-17

[2]

银溅射靶材组件的生产工艺 [P].

姚志刚 ;

王健 ;

李忠飞 .

中国专利 :CN106893990A ,2017-06-27

[3]

一种高纯度金属溅射靶材冷却方法 [P].

唐智勇 ;

唐安泰 .

中国专利 :CN115125497A ,2022-09-30

[4]

高纯度铜溅射靶 [P].

冈部岳夫 ;

大月富男 ;

渡边茂 .

中国专利 :CN104053814A ,2014-09-17

[5]

一种溅射靶材工艺及溅射工艺 [P].

胡彬彬 ;

陈建维 ;

张旭升 .

中国专利 :CN103114271A ,2013-05-22

[6]

高纯度铜铬合金溅射靶 [P].

大月富男 ;

福岛笃志 .

中国专利 :CN104066869A ,2014-09-24

[7]

高纯度铜锰合金溅射靶 [P].

长田健一 ;

大月富男 ;

冈部岳夫 ;

牧野修仁 ;

福岛笃志 .

中国专利 :CN104066868B ,2014-09-24

[8]

高纯度铜锰合金溅射靶 [P].

长田健一 ;

大月富男 ;

冈部岳夫 ;

牧野修仁 ;

福岛笃志 .

中国专利 :CN103547701A ,2014-01-29

[9]

高纯度铜锰合金溅射靶 [P].

长田健一 ;

大月富男 ;

冈部岳夫 ;

牧野修仁 ;

福岛笃志 .

中国专利 :CN103797152A ,2014-05-14

[10]

高纯度铜溅射靶用铜原材料及高纯度铜溅射靶 [P].

樱井晶 ;

谷雨 ;

佐藤雄次 ;

熊谷训 .

中国专利 :CN105339527A ,2016-02-17

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