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一种栅注入型铁电场效应晶体管
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202511352765.6
申请日
:
2025-09-22
公开(公告)号
:
CN121218643A
公开(公告)日
:
2025-12-26
发明(设计)人
:
黄芊芊
徐劭迪
黄如
申请人
:
北京大学
申请人地址
:
100871 北京市海淀区颐和园路5号
IPC主分类号
:
H10D30/60
IPC分类号
:
H10D30/69
H10D30/01
H10D64/01
H10D64/68
代理机构
:
北京万象新悦知识产权代理有限公司 11360
代理人
:
贾晓玲
法律状态
:
公开
国省代码
:
北京市 市辖区
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-12-26
公开
公开
共 50 条
[1]
垂直铁电场效应晶体管的制备方法及垂直铁电场效应晶体管
[P].
田博博
论文数:
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田博博
;
冯光迪
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冯光迪
;
朱秋香
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朱秋香
;
褚君浩
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褚君浩
;
段纯刚
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段纯刚
.
中国专利
:CN114999919A
,2022-09-02
[2]
具有混合阱的铁电场效应晶体管
[P].
S·邓克尔
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机构:
格芯德累斯顿第一模数有限责任及两合公司
格芯德累斯顿第一模数有限责任及两合公司
S·邓克尔
;
D·M·克莱迈尔
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机构:
格芯德累斯顿第一模数有限责任及两合公司
格芯德累斯顿第一模数有限责任及两合公司
D·M·克莱迈尔
;
赵智兴
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机构:
格芯德累斯顿第一模数有限责任及两合公司
格芯德累斯顿第一模数有限责任及两合公司
赵智兴
;
H·穆拉奥斯曼诺维奇
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机构:
格芯德累斯顿第一模数有限责任及两合公司
格芯德累斯顿第一模数有限责任及两合公司
H·穆拉奥斯曼诺维奇
.
德国专利
:CN117855271A
,2024-04-09
[3]
一种铁电场效应晶体管阵列的写入方法
[P].
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机构:
唐克超
;
周粤佳
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机构:
北京大学
北京大学
周粤佳
;
论文数:
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机构:
黄如
.
中国专利
:CN119601054A
,2025-03-11
[4]
一种铁电场效应晶体管阵列的写入方法
[P].
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机构:
唐克超
;
周粤佳
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机构:
北京大学
北京大学
周粤佳
;
论文数:
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机构:
黄如
.
中国专利
:CN119601054B
,2025-10-24
[5]
铁电场效应晶体管和形成半导体结构的方法
[P].
乔治奥斯·韦理安尼堤斯
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
乔治奥斯·韦理安尼堤斯
;
马可·范·达尔
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
马可·范·达尔
.
中国专利
:CN113054023B
,2024-11-29
[6]
铁电场效应晶体管和形成半导体结构的方法
[P].
乔治奥斯·韦理安尼堤斯
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乔治奥斯·韦理安尼堤斯
;
马可·范·达尔
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马可·范·达尔
.
中国专利
:CN113054023A
,2021-06-29
[7]
摩擦电场效应晶体管
[P].
张弛
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张弛
;
唐伟
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唐伟
;
张丽敏
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张丽敏
;
王中林
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王中林
.
中国专利
:CN104600114B
,2015-05-06
[8]
一种铁电场效应晶体管、铁电存储器和制造方法
[P].
李秀妍
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
李秀妍
;
钟舒曼
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
钟舒曼
;
刘川川
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
刘川川
;
马超
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
马超
;
秦青
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
秦青
;
周雪
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
周雪
;
焦慧芳
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机构:
华为技术有限公司
华为技术有限公司
焦慧芳
.
中国专利
:CN118251775A
,2024-06-25
[9]
铁电场效应晶体管及其制备方法
[P].
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机构:
许高博
;
刘思源
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
刘思源
;
许子铭
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机构:
中国科学院微电子研究所
中国科学院微电子研究所
许子铭
;
论文数:
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机构:
张兆浩
.
中国专利
:CN118969838A
,2024-11-15
[10]
一种绝缘栅型压电场效应晶体管
[P].
张岩
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张岩
;
胡琴琴
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0
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胡琴琴
.
中国专利
:CN109920844A
,2019-06-21
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