一种半导体晶片的全自动清洗设备

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202511587165.8
申请日
2025-11-03
公开(公告)号
CN121171938A
公开(公告)日
2025-12-19
发明(设计)人
赵中阳 赵春锋 刘砚滨 于会永 冯佳峰 徐宏艳
申请人
大庆溢泰半导体材料有限公司
申请人地址
163000 黑龙江省大庆市高新区新泰路3号、黑龙江省大庆高新区火炬新街44号(园区)新兴产业孵化器3#210房间
IPC主分类号
H01L21/67
IPC分类号
H01L21/683 H01L21/673 B08B3/04 B08B13/00
代理机构
黑龙江省百盾知识产权代理事务所(普通合伙) 23218
代理人
孙淑荣
法律状态
公开
国省代码
江苏省 常州市
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共 50 条
[1]
一种半导体晶片生产装载设备 [P]. 
苏子腾 ;
张荣轩 ;
苏百河 .
中国专利 :CN121019933A ,2025-11-28
[2]
一种半导体晶片清洗设备 [P]. 
凡青松 ;
杨文勇 .
中国专利 :CN220895464U ,2024-05-03
[3]
一种半导体晶片清洗设备 [P]. 
黄侬金 .
中国专利 :CN212113635U ,2020-12-08
[4]
一种半导体晶片清洗系统 [P]. 
吴倩 ;
郑金龙 ;
周铁军 ;
马金峰 ;
王金灵 .
中国专利 :CN216818281U ,2022-06-24
[5]
半导体晶片的清洗装置以及半导体晶片的清洗方法 [P]. 
野田魁人 ;
大久保知洋 ;
中尾勇贵 ;
富田迪彦 .
中国专利 :CN114902379A ,2022-08-12
[6]
一种半导体晶片表面处理设备 [P]. 
唐维维 ;
刘弦 ;
罗桂海 .
中国专利 :CN119725175A ,2025-03-28
[7]
一种半导体晶片的清洗装置 [P]. 
李杰 ;
殷军伟 .
中国专利 :CN220461579U ,2024-02-09
[8]
一种半导体晶片的清洗装置 [P]. 
康凯 ;
刘景亮 ;
陆前军 ;
王子荣 .
中国专利 :CN208298787U ,2018-12-28
[9]
半导体晶片用干冰清洗装置及半导体晶片的清洗方法 [P]. 
矢野良树 ;
渕上庆太 .
日本专利 :CN118056266A ,2024-05-17
[10]
一种半导体晶片的清洗装置 [P]. 
刘景亮 ;
陆前军 ;
王子荣 ;
其他发明人请求不公开姓名 .
中国专利 :CN108550519A ,2018-09-18