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一种半导体晶片清洗设备
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202020566142.5
申请日：
2020-04-16
公开(公告)号：
CN212113635U
公开(公告)日：
2020-12-08
发明(设计)人：
黄侬金
申请人：
申请人地址：
215300 江苏省苏州市昆山市玉山镇城北水秀路1881号5号房
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
H01L21673
代理机构：
苏州周智专利代理事务所(特殊普通合伙) 32312
代理人：
周雅卿
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-12-08 | 授权 | 授权 |