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成膜方法和成膜装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202510735016.5
申请日
:
2025-06-04
公开(公告)号
:
CN121148995A
公开(公告)日
:
2025-12-16
发明(设计)人
:
田吹圭司
大越显
小川淳
申请人
:
东京毅力科创株式会社
申请人地址
:
日本
IPC主分类号
:
H01L21/318
IPC分类号
:
C23C16/34
C23C16/455
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
王小香;李靖
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-12-16
公开
公开
共 50 条
[1]
成膜方法和成膜装置
[P].
田吹圭司
论文数:
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
田吹圭司
;
大越显
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大越显
;
小川淳
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小川淳
.
日本专利
:CN121148996A
,2025-12-16
[2]
氮化硅膜的成膜方法和成膜装置
[P].
村上博纪
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村上博纪
;
渡边要介
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渡边要介
;
长谷部一秀
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长谷部一秀
.
中国专利
:CN102560417A
,2012-07-11
[3]
成膜方法和成膜装置
[P].
松永正信
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松永正信
;
铃木启介
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铃木启介
;
张宰赫
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张宰赫
;
周保华
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周保华
;
米泽雅人
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米泽雅人
;
长谷川雅之
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长谷川雅之
;
长谷部一秀
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长谷部一秀
.
中国专利
:CN102097302A
,2011-06-15
[4]
成膜方法和成膜装置
[P].
小川淳
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小川淳
;
吹上纪明
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吹上纪明
.
中国专利
:CN112410753A
,2021-02-26
[5]
成膜方法和成膜装置
[P].
羽根秀臣
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
羽根秀臣
;
小山峻史
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小山峻史
;
大槻志门
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大槻志门
;
向山廉
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
向山廉
;
吹上纪明
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
吹上纪明
;
小川淳
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小川淳
.
日本专利
:CN112391612B
,2024-07-09
[6]
成膜方法和成膜装置
[P].
羽根秀臣
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羽根秀臣
;
大槻志门
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大槻志门
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小山峻史
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小山峻史
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向山廉
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向山廉
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小川淳
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小川淳
;
吹上纪明
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吹上纪明
.
中国专利
:CN112391607A
,2021-02-23
[7]
成膜方法和成膜装置
[P].
小川淳
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小川淳
;
吹上纪明
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
吹上纪明
.
日本专利
:CN112410753B
,2024-08-30
[8]
成膜方法和成膜装置
[P].
羽根秀臣
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
羽根秀臣
;
大槻志门
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
大槻志门
;
小山峻史
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小山峻史
;
向山廉
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东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
向山廉
;
小川淳
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
小川淳
;
吹上纪明
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
吹上纪明
.
日本专利
:CN112391607B
,2024-11-05
[9]
成膜方法和成膜装置
[P].
羽根秀臣
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羽根秀臣
;
小山峻史
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小山峻史
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大槻志门
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大槻志门
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向山廉
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向山廉
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吹上纪明
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吹上纪明
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小川淳
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小川淳
.
中国专利
:CN112391612A
,2021-02-23
[10]
成膜方法和成膜装置
[P].
周保华
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周保华
;
梅泽好太
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梅泽好太
;
渡边要介
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渡边要介
;
长谷川雅之
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长谷川雅之
.
中国专利
:CN102242350B
,2011-11-16
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