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环绕栅极晶体管的形成方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202410749610.5
申请日
:
2024-06-11
公开(公告)号
:
CN121152235A
公开(公告)日
:
2025-12-16
发明(设计)人
:
姜长城
李昱辰
纪世良
张海洋
申请人
:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请人地址
:
201203 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区张江路18号
IPC主分类号
:
H10D30/01
IPC分类号
:
H10D30/60
H10B10/00
H10B12/00
代理机构
:
上海知锦知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31327
代理人
:
张雪琴
法律状态
:
公开
国省代码
:
上海市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-12-16
公开
公开
共 50 条
[1]
环绕栅极晶体管的形成方法
[P].
姜长城
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
姜长城
;
杨晗
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
杨晗
;
纪世良
论文数:
0
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0
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0
机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
纪世良
;
张海洋
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
张海洋
.
中国专利
:CN120857598A
,2025-10-28
[2]
环绕式栅极晶体管和形成方法
[P].
本杰明·科伦坡
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
本杰明·科伦坡
;
B·普拉纳瑟提哈兰
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
B·普拉纳瑟提哈兰
;
刘乐群
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
应用材料公司
应用材料公司
刘乐群
.
美国专利
:CN118339648A
,2024-07-12
[3]
金属栅极晶体管的形成方法
[P].
刘焕新
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘焕新
.
中国专利
:CN104241129A
,2014-12-24
[4]
金属栅极晶体管的形成方法
[P].
刘焕新
论文数:
0
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0
刘焕新
.
中国专利
:CN104241131A
,2014-12-24
[5]
晶体管栅极的形成方法
[P].
邱彦睿
论文数:
0
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邱彦睿
;
庄曜滕
论文数:
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庄曜滕
;
林揆伦
论文数:
0
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0
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0
林揆伦
.
中国专利
:CN114695262A
,2022-07-01
[6]
多重栅极晶体管与其形成方法
[P].
杨育佳
论文数:
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0
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0
杨育佳
;
杨富量
论文数:
0
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0
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0
杨富量
;
胡正明
论文数:
0
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0
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0
胡正明
.
中国专利
:CN100530688C
,2005-06-22
[7]
NMOS金属栅极晶体管的形成方法
[P].
张海洋
论文数:
0
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0
张海洋
;
李凤莲
论文数:
0
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0
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0
李凤莲
.
中国专利
:CN104347377B
,2015-02-11
[8]
晶体管栅极及其形成方法
[P].
李欣怡
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
李欣怡
;
陈智城
论文数:
0
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
陈智城
;
洪正隆
论文数:
0
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
洪正隆
;
徐志安
论文数:
0
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0
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机构:
台湾积体电路制造股份有限公司
台湾积体电路制造股份有限公司
徐志安
.
中国专利
:CN113345893B
,2025-05-06
[9]
全环绕栅极晶体管的制备方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
母志强
;
论文数:
引用数:
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机构:
刘强
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
俞文杰
.
中国专利
:CN113539792B
,2024-03-01
[10]
全环绕栅极晶体管的制备方法
[P].
母志强
论文数:
0
引用数:
0
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0
母志强
;
刘强
论文数:
0
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0
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0
刘强
;
俞文杰
论文数:
0
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0
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0
俞文杰
.
中国专利
:CN113539792A
,2021-10-22
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