EUV光刻用干光刻胶或硬掩模

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202480032545.2

申请日：

2024-04-08

公开(公告)号：

CN121127801A

公开(公告)日：

2025-12-12

发明(设计)人：

G·I·梅杰尔 V·韦伯 L·莫林岸本章宏 P·W·J·斯塔尔

申请人：

国际商业机器公司

申请人地址：

美国

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

C07F9/94

代理机构：

中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038

代理人：

夏正东

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-12-12	公开	公开
2025-12-30	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/004申请日:20240408

共 50 条

[1]

饶夙缔 ;

陈孝贤 .

中国专利 :CN110174819B ,2019-08-27

[2]

EUV光刻用反射型掩模基板及EUV光刻用反射型掩模 [P].

木下健 .

中国专利 :CN102016717B ,2011-04-13

[3]

EUV光刻用反射型掩模基板及EUV光刻用反射型掩模 [P].

林和幸 ;

宇野俊之 ;

海老原健 .

中国专利 :CN102089860B ,2011-06-08

[4]

正性光刻胶 [P].

唐谦 ;

M·劳斯 .

中国专利 :CN1075638C ,1996-04-24

[5]

提高EUV光刻胶及硬掩模选择性的图案化方案 [P].

南希·冯 ;

志一·郎 ;

和勇·大卫·黄 .

中国专利 :CN112424693A ,2021-02-26

[6]

提高EUV光刻胶及硬掩模选择性的图案化方案 [P].

南希·冯 ;

志一·郎 ;

和勇·大卫·黄 .

美国专利 :CN112424693B ,2024-05-31

[7]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

[8]

一种光刻胶组合物及光刻胶 [P].

赵明 ;

张晶晶 ;

刘瑶 ;

李琳 ;

胡登峰 .

中国专利 :CN114415469A ,2022-04-29

[9]

用于图案化EUV掩模上的光刻胶层的光刻系统和方法 [P].

林云跃 ;

陈嘉仁 ;

李信昌 ;

严涛南 .

中国专利 :CN105023832A ,2015-11-04

[10]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

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