A-SI-H GAP STATES INVESTIGATED BY CPM AND SCLC

被引:58
作者
KOCKA, J [1 ]
VANECEK, M [1 ]
SCHAUER, F [1 ]
机构
[1] TECH ACAD BRNO, CS-61200 BRNO, CZECHOSLOVAKIA
关键词
D O I
10.1016/0022-3093(87)90169-4
中图分类号
TQ174 [陶瓷工业]; TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
引用
收藏
页码:715 / 722
页数:8
相关论文
共 26 条