EFFECT OF MINOR CONSTITUENTS ON ELECTRO-TRANSPORT-INDUCED FAILURE SITE IN THIN GOLD-FILMS

被引：9

作者：

HUMMEL, RE

KRUMEICH, BK

DEHOFF, RT

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.90217

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：960 / 962

页数：3

共 15 条

HUMMEL, RE ;

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