TUNGSTEN ETCHING MECHANISMS IN CF4/O-2 REACTIVE ION ETCHING PLASMAS

被引:29
作者
BESTWICK, TD
OEHRLEIN, GS
机构
关键词
D O I
10.1063/1.343776
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页数:5
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