THE INFLUENCE OF MOBILE IONS ON THE SI-SIO2 INTERFACE TRAPS

被引:20
作者
HILLEN, MW
HEMMES, DG
机构
关键词
D O I
10.1016/0038-1101(81)90059-9
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页数:8
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