COMPETITIVE REACTIONS OF FLUORINE AND OXYGEN WITH W, WSI2, AND SI SURFACES IN REACTIVE ION ETCHING USING CF4/O2

被引:25
作者
OEHRLEIN, GS
LINDSTOM, JL
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1989年 / 7卷 / 03期
关键词
D O I
10.1116/1.576225
中图分类号
TB3 [工程材料学];
学科分类号
0805 ; 080502 ;
摘要
引用
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页码:1035 / 1041
页数:7
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