DIELECTRIC CHARACTERISTICS OF DOUBLE-LAYER STRUCTURE OF EXTREMELY THIN TA2O5/SIO2 ON SI

被引:72
作者
NISHIOKA, Y
KIMURA, S
SHINRIKI, H
MUKAI, K
机构
关键词
D O I
10.1149/1.2100469
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
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页数:6
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