磁控溅射对薄膜附着力的影响

被引：13

作者：

余凤斌 ^{[1
]}

陈莹 ^{[2
]}

机构：

[1] 山东天诺光电材料有限公司

[2] 山东现代职业学院

来源：

绝缘材料 | 2008年 / 41卷 / 06期

关键词：

磁控溅射; 附着力; 综述;

D O I：

10.16790/j.cnki.1009-9239.im.2008.06.011

中图分类号：

TB383.2 [];

学科分类号：

070205 ; 080501 ; 1406 ;

摘要：

磁控溅射技术因具有溅射速率高、无污染、可制备各种不同功能的薄膜等优点而得到广泛地应用。综述了薄膜附着力机理,分析了影响薄膜性能的因素,结果表明,薄膜的附着力是影响薄膜性能的主要因素。影响薄膜附着力的因素有:基材的表面清洁度、制备薄膜的各种工艺参数、热处理、原料的纯度等。

引用

页码：41 / 43+46 +46

页数：4

共 13 条

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