共 10 条
基于混合梯度下降的高性能光刻机离轴照明衍射光学元件设计
被引:17
作者:
宋强
[1
,2
]
朱菁
[1
,2
]
王健
[1
,2
]
张方
[1
,2
]
吕向博
[1
,2
]
杨宝喜
[1
,2
]
黄惠杰
[1
,2
]
机构:
[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所
[2] 中国科学院大学
来源:
关键词:
光学设计;
光学光刻;
光瞳整形;
衍射光学元件设计;
部分相干光;
D O I:
暂无
中图分类号:
TN305.7 [光刻、掩膜];
学科分类号:
1401 ;
摘要:
深紫外(DUV)光刻机照明系统普遍采用衍射光学元件(DOE)实现光瞳整形。根据光刻机的指标要求,衍射光学元件应具有高衍射效率和高均匀性的特点。传统的相位恢复算法如Gerchberg-Saxton(GS)及其改进算法,一般只能通过降低均匀性来提高衍射效率,无法得到最优的解。而全局优化算法如模拟退火法、遗传基因法等需要大量的计算时间,难以实现像素数目多的深紫外DOE的设计。为了克服上述困难,提出了一种基于GS的混合梯度下降算法,在迭代过程中对每次迭代的振幅进行加权反馈修正,在加快收敛速度的同时,减少误差,同时实现高效率和高信噪比。利用该算法对光刻需要的传统、四极照明光瞳、定制照明光瞳的DOE进行了设计,结果表明,实现传统和四极照明光瞳的16阶量化相位DOE的衍射效率均超过92%,而非均匀性分别为3.98%和2.3%。实现定制照明光瞳的DOE的衍射效率为91%,图形恢复误差为5.8%。该方法为获得高性能深紫外DOE提供一条可行的途径。
引用
收藏
页码:362 / 370
页数:9
相关论文