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ITO作填料的涂层光谱特性研究
被引:11
作者:
於定华
叶熙源
余大斌
王自荣
朱晓颖
机构:
[1] 电子工程学院研究所!安徽合肥
来源:
关键词:
ITO;
反射率;
发射率;
涂层;
等离子体波长;
D O I:
暂无
中图分类号:
O472.3 [];
学科分类号:
070205 ;
080501 ;
0809 ;
080903 ;
摘要:
用高温烧结的ITO( 掺SnO2 的In2O3) 晶体粉末为填料制备涂层,对其光谱特性进行研究。分析结果表明:这种涂层的光谱特性随着填料ITO 中SnO2 掺杂浓度的改变而改变;控制Sn O2 的掺杂浓度可以获得满足要求的ITO 晶体,以其为填料的涂层呈现出黄色调,且在近红外(0 .8 ~2 .5μm) 具有较低的反射率,同时在远红外(8 ~14μm ) 具有较低的发射率。最后对涂层的光谱特性给出了理论上的解释。
引用
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页数:3
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