W/B4C、W/C、W/Si多层膜的研究

被引：8

作者：

王风丽

王占山

张众

吴文娟

王洪昌

张淑敏

秦树基

陈玲燕

机构：

[1] 同济大学精密光学工程技术研究所

[2] 同济大学精密光学工程技术研究所上海

[3] 上海

来源：

光学精密工程 | 2005年 / 01期

关键词：

多层膜; X射线衍射仪; 同步辐射; 透射电镜;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484 [薄膜物理学];

学科分类号：

080501 ; 1406 ;

摘要：

给出了W/B4C、W/C、W/Si(钨/碳化硼、钨/碳、钨/硅)周期多层膜的制备和测量研究。用超高真空直流磁控溅射方法制备出周期在1.1～7.2 nm范围内的多层膜样品,采用X射线衍射仪(XRD)小角度测量方法检测多层膜的光学性能,并用透射电镜(TEM)对样品的微观结构进行了研究。结果表明:周期大于1.3 nm的多层膜样品的结构质量高,膜层结构清晰,界面粗糙度小;周期为 1.15 nm的多层膜的膜层结构不是很明显;所有膜层均为非晶态,没有晶相生成。结果还表明:采用目前的溅射设备和工艺过程能够制备出满足同步辐射荧光光束线上单色器用多层膜。

引用

页码：28 / 33

页数：6

共 4 条

[1] 软X射线激光用分束镜研制 [J].

王占山 ;

吴永刚 ;

唐伟星 ;

秦树基 ;

陈玲燕 ;

徐向东 ;

洪义麟 ;

付绍军 ;

朱杰 ;

崔明启 .

科学通报, 2003, (13) :1398-1401

[2] Mo/Si多层膜残余应力的研究 [J].

向鹏 ;

金春水 .

光学精密工程, 2003, (01) :62-67

[3] 8.0nm X射线激光反射镜Mo/B-4C多层膜制备及其特性 [J].

吕俊霞 ;

马月英 ;

裴舒 ;

沈长斌 ;

曹健林 ;

陈星旦 .

原子能科学技术, 1999, (04) :343-345

[4] 磁控溅射SiC/W纳米多层膜的微结构研究 [J].

杨晓豫 ;

蔡珣 ;

李莹 ;

张流强 .

真空科学与技术, 1997, (06) :412-416

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