离子束溅射制备Nb2O5光学薄膜的特性研究

被引：5

作者：

袁文佳

章岳光

沈伟东

马群

刘旭

机构：

[1] 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室

来源：

物理学报 | 2011年 / 60卷 / 04期

基金：

浙江省自然科学基金;

关键词：

Nb2O5薄膜; 离子束溅射; 光学特性; 应力;

D O I：

暂无

中图分类号：

O484.41 [];

学科分类号：

0803 ;

摘要：

研究了离子束溅射(IBS)制备的Nb2O5薄膜的光学特性、应力、薄膜微结构等特性,系统地分析了辅助离子源的离子束能量和离子束流对薄膜特性的影响.结果显示,在辅助离子源不同参数情况下,折射率在波长550nm处为2.310—2.276,应力值为-281—-152MPa.在合适的工艺参数下,消光系数可小于10-4,薄膜具有很好的表面平整度.与用离子辅助沉积(IAD)制备的薄膜相比,IBS制备的薄膜具有更好的光学特性和薄膜微结构.

引用

页码：688 / 693

页数：6

共 8 条

[1] 沉积速率和氧分压对HfO2薄膜残余应力的影响 [J].