光刻机照明系统的多自由度均匀性校正方法

被引：7

作者：

程伟林 ^{[1
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张方 ^{[1
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林栋梁 ^{[1
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曾爱军 ^{[1
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杨宝喜 ^{[1
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黄惠杰 ^{[1
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机构：

[1] 中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室

[2] 中国科学院大学

来源：

光学学报 | 2018年 / 38卷 / 10期

关键词：

光学设计; 光刻机; 照明系统; 多自由度均匀性校正;

D O I：

暂无

中图分类号：

TN305.7 [光刻、掩膜];

学科分类号：

1401 ;

摘要：

提出了一种光刻机照明系统的多自由度均匀性校正方法。当照明光瞳的部分相干因子发生变化时,该方法的校正手指只需整体在光轴方向进行微调就能使照明光场的均匀性满足要求。仿真分析了校正手指的三维空间移动对照明光场均匀性的影响,并验证了该方法的高效性。

引用

页码：319 / 326

页数：8

共 7 条

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