SIMS ANALYSIS OF ISOTOPIC IMPURITIES IN ION IMPLANTS

被引：5

作者：

SYKES, DE ^{[1
]}

BLUNT, RT ^{[1
]}

机构：

[1] PLESSEY CO LTD,ALLEN CLARK RES CTR,TOWCHESTER NN12 8EQ,NORTHANTS,ENGLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0042-207X(86)90155-7

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：1001 / 1003

页数：3

共 7 条

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