SELECTIVELY DOPED GAAS/N-ALGAAS HETEROSTRUCTURES GROWN BY MOLECULAR-BEAM EPITAXY FOR HIGH ELECTRON-MOBILITY TRANSISTOR IC APPLICATIONS

被引:6
作者
HIYAMIZU, S
SAITO, J
KONDO, K
YAMAMOTO, T
ISHIKAWA, T
SASA, S
机构
来源
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1985年 / 3卷 / 02期
关键词
D O I
10.1116/1.583186
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
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页码:585 / 587
页数:3
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