PLASMA ENHANCED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION USING FORCED FLOW THROUGH HOLLOW CATHODES

被引：16

作者：

JANSEN, F

KUHMAN, D

TABER, C

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS | 1989年 / 7卷 / 06期

关键词：

D O I：

10.1116/1.576331

中图分类号：

TB3 [工程材料学];

学科分类号：

0805 ; 080502 ;

摘要：

引用

页码：3176 / 3182

页数：7

共 5 条

[1] HIGH-RATE JET PLASMA-ASSISTED CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION [J].

BARDOS, L ;

DUSEK, V .

CHEN, I ;

JANSEN, F .

[3] WEAR PROPERTIES OF TETRAHEDRALLY BONDED AMORPHOUS THIN-FILMS [J].

JANSEN, F ;

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TSU, DV ;

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JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A-VACUUM SURFACES AND FILMS, 1986, 4 (03) :681-688

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