DOSE AND ENERGY-DEPENDENCE OF INTERFACE TRAP FORMATION IN CO-60 AND X-RAY ENVIRONMENTS

被引:34
作者
BENEDETTO, JM
BOESCH, HE
MCLEAN, FB
机构
关键词
D O I
10.1109/23.25449
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
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页码:1260 / 1264
页数:5
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