TEMPERATURE-DEPENDENT EBIC DIFFUSION-LENGTH MEASUREMENTS IN SILICON

被引:14
作者
KITTLER, M
SEIFERT, W
SCHRODER, KW
机构
来源
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH | 1986年 / 93卷 / 01期
关键词
D O I
10.1002/pssa.2210930173
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:K101 / K104
页数:4
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