RAPID THERMAL AND PULSED LASER ANNEALING OF BORON FLUORIDE-IMPLANTED SILICON

被引：45

作者：

NARAYAN, J

HOLLAND, OW

CHRISTIE, WH

WORTMAN, JJ

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1063/1.335411

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：2709 / 2716

页数：8

共 18 条

[11]

Narayan J., 1984, Materials Letters, V2, P211, DOI 10.1016/0167-577X(84)90026-0

[12]

NARAYAN J, 1983, LASER SOLID INTERACT

NYLANDSTEDLARSEN, A ;

JARJIS, RA .

[14]

OLSEN G, ADV SOLID STATE TECH

PENNYCOOK, SJ ;

NARAYAN, J ;

HOLLAND, OW .

[16] SHORT-TIME ANNEALING [J].

SEDGWICK, TO .

TSAI, MY ;

STREETMAN, BG ;

WILLIAMS, P ;

EVANS, CA .

[18]

TSAUR BY, 1981, APPL PHYS LETT, V39, P94