CONTACT RESISTIVITY AND DOPANT ACTIVATION IN PULSED-LASER-ANNEALED AU-GE/GAAS CONTACTS

被引:5
作者
AINA, O
KATZ, W
机构
[1] GE,CORP RES & DEV,SCHENECTADY,NY 12309
[2] RENSSELAER POLYTECH INST,CTR INTEGRATED ELECTR,TROY,NY 12181
关键词
D O I
10.1016/0040-6090(83)90583-7
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页数:7
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