HIGHLY CONDUCTIVE AND WIDE BAND-GAP AMORPHOUS-MICROCRYSTALLINE MIXED-PHASE SILICON FILMS PREPARED BY PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引:50
作者
NISHIDA, S
TASAKI, H
KONAGAI, M
TAKAHASHI, K
机构
关键词
D O I
10.1063/1.336071
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:1427 / 1431
页数:5
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