COPPER PRECIPITATION IN LONG-TIME DIFFUSED SILICON

被引：3

作者：

GLEICHMANN, R ^{[1
]}

MOHR, U ^{[1
]}

JEGERLEHNER, K ^{[1
]}

机构：

[1] VEB GLEICHRICHTERWERK STAHNSDORF,DDR-1533 STANHSDORF,GER DEM REP

来源：

关键词：

D O I：

10.1002/crat.2170180303

中图分类号：

O7 [晶体学];

学科分类号：

0702 ; 070205 ; 0703 ; 080501 ;

摘要：

引用

页码：297 / 305

页数：9

共 6 条

[1] PRECIPITATION OF COPPER IN SILICON [J].

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MENNIGER, H ;

RAIDT, H ;

GLEICHMANN, R .

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